
高低溫一體恒溫槽為用戶提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源, 應用于-40℃~180℃(溫度高至195℃)石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制,半導體擴散爐擴散工藝控制,對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環應用
特點
1、PID精密恒溫控制系統,精密恒溫控制系統,恒溫波動度±0.1℃,適用于高至195℃,低-40℃的化工、制藥等化學反應工藝過程控制等;
2、單點溫度校準和電位器校正,溫度數據更可靠;
3、壓縮機,噪音低,制冷效率高;
4、制冷相關配件采用進口品牌,性能穩定且壽命長;
5、制冷系統具備高壓保護器,確保制冷系統安全;
6、全封閉高低溫磁力泵循環攪拌,溫場均勻,免除泄露和異常噪音;
7、具備傳感器開路、短路保護、ADC初始化檢測等,安全防護更全面;
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